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CMP供液装置国际招标公告
招标项目名称:CMP供液装置招标产品列表(主要设备):CMP供液装置 5招标文件领购开始时间:2023-07-19招标文件领购结束时间:2023-07-26开标时间:2023-08-09 09:30招标人:上海华虹宏力半导体制造有限公司地...
CMP
The electronics industry has grown rapidly in the past three decades. Ultra-large-scaleintegrated (ULSI) circuits, with ...
在颗粒去除非离子表面活性剂后- CMP清洗
The effect of a non-ionic surfactant on particles removal in post-CMP cleaning was investigated. Bychanging the concentr...
宜兴中车时代半导体有限公司CMP设备项目（重新招标）中标结果公告
项目名称：宜兴中车时代半导体有限公司CMP设备项目（重新招标）项目编号：0623-2340J1110148招标产品列表(主要设备):CMP设备 4台招标机构：湖南省招标有限责任公司招标人：宜兴中车时代半导体有限公司开标时间：2023-08-...
铜 CMP 后清洗过程中胶体二氧化硅和铜离子对 PVA 刷污染的影响
介绍为了减少晶片表面的缺陷和污染物，对后CMP清洗进行了多项研究。大多数研究都集中在化学剂输送、后CMP清洗溶液和刷洗参数对晶片表面颗粒负载和缺陷的影响上。为了满足当前的清洗要求，了解CMP残渣与PVA刷在PVA刷刷洗过程中的相互作用是很重...
Post-CMP Clean
抛光后表面的清洗质量直接关系到CMP技术水平的高低，目前常用的 CMP后清洗的方法有泡、喷淋擦洗、超声波、兆声波等。其中浸泡、喷淋大多作为中间过程，不是单独的洗方法。擦洗是一种应用广泛、高效的接触式清洗方式，是刷子和工件表面持续接触的介于边...