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单晶片背面和斜面清洁
关键词:背面兆频超声波，背面清洁，粒子去除效率。 介绍 在IC制造中，从晶圆背面(BS)去除颗粒变得与从正面(FS)去除颗粒一样重要。例如，在光刻过程中，； BS颗粒会导致顶侧表面形貌的变化。由于焦深(DOF)的处理窗口减小，这可能导致焦点...
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关键词:背面兆频超声波，背面清洁，粒子去除效率。 介绍 在IC制造中，从晶圆背面(BS)去除颗粒变得与从正面(FS)去除颗粒一样重要。例如，在光刻过程中，； BS颗粒会导致顶侧表面形貌的变化。由于焦深(DOF)的处理窗口减小，这可能导致焦点...
在先进的单晶片光刻胶处理系统上使用独特的无溶剂相流体进行超音速增强光刻胶去除
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单晶刀清洗过程：分散现象对冲洗时间的影响
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高效单晶圆清洗工艺
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使用物理去除力的单晶片清洁工具的清洁和损坏性能
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单晶片处理中的无损伤清洁
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单晶片工具上的栅极氧化物清洁
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单晶片工具上的栅极氧化物清洁
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