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通过重复使用臭氧水和稀 HF 的单晶圆旋转清洁去除污染物
We have developed a new technique of single-wafer spin cleaning at room temperature, while alternately supplying ozonize...
SPM 溶液对抛光 SiO2 薄膜和吸附二氧化铈纳米颗粒对单晶圆清洗的热影
Caria nanoparticles which have been used to remove SiO2 film rapidly and selectively form Ce-O-Sibonds with proposed che...
晶圆级单晶金刚石的常用工艺
Large size single crystal diamond (SCD) wafer has been strongly desired for various of advancedapplications, while two m...
双光源微焦斑X-射线单晶衍射仪国际招标公告
招标项目名称:双光源微焦斑X-射线单晶衍射仪招标产品列表(主要设备):双光源微焦斑X-射线单晶衍射仪1套招标文件领购开始时间:2023-11-16招标文件领购结束时间:2023-11-23开标时间:2023-12-07 13:30招标人:上...
金属间化合物单晶和准晶的高温溶液生长
Solution growth continues to be one of the most powerful techniques for the production of single crystals for basicandap...
使用单晶片工具技术对用于 FEOL 和 BEOL 集成的多层材料进行返工 剥离
As feature sizes continue to the 45nm and 32nm nodes, significant challenges will continue to arise in bothfront-end-of-...
通过重复使用臭氧水和稀 HF 的单晶圆旋转清洁去除污染物
摘要我们开发了一种新的单片旋转清洗技术，该技术可以在室温下进行，通过喷嘴将臭氧水和稀HF溶液交替供给旋转的硅片各10秒，然后重复此循环直到表面清洁度达到所需水平。这种新的旋转清洗顺序可以有效地去除硅片表面的颗粒和金属污染物以及有机污染物，同...
可转移单晶AlN纳米膜的合成及特性
摘要单晶无机半导体纳米薄膜（NMs）在过去十年中引起了人们的极大关注，这对复杂的器件集成具有很大的优势。已用各种半导体纳米膜在异质电子学和柔性电子学中进行了应用。作为具有超宽带隙的半导体，单晶铝氮（AlN）在诸如高功率电子等应用中具有巨大潜...
SPM 溶液对抛光 SiO2 薄膜和吸附二氧化铈纳米c对单晶圆清洗的热影响
Caria是一种纳米颗粒，它被用来快速和选择性地去除SiO2薄膜。当在SiO2薄膜表面进行抛光时，它与Ce-O-Si键结合，化学反应为(-Ce-OH + -Si-O- ↔ Ce-O-Si- + OH-)。这种化学反应发生在硅氧化物薄膜表面，...
晶圆级单晶金刚石的常用工艺
摘要大尺寸单晶金刚石（SCD）晶片一直是各种先进应用的强烈需求，而两种主要的潜在方法，包括镶嵌生长和基于化学气相沉积方法的异质外延，都遇到了各自的技术障碍。本文揭示并总结了这两种方案的本质共性，并提出了“共同基本连接”（CC）增长的概念。这...