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在碳酸氢钠溶液中单晶硅各向异性蚀刻法制备的微结构
本文研究了基于碳酸钠和碳酸氢钠混合溶液在不同条件下制作单晶硅片微结构的方法。根据表面形态大小和覆盖率对纹理化过程进行了评估。实验表明，Na2CO3浓度的影响通过在5 wt%和30 wt%之间改变浓度是显著的。结果表明，随着Na2CO3浓度的...
晶圆键合单晶硅槽波导和环形谐振器
我们通过键合薄的绝缘体上硅晶片来制造具有25纳米二氧化硅槽层的水平硅槽波导。在从键合结构的一侧去除硅衬底和掩埋氧化物之后，光栅耦合波导和环形谐振器被部分蚀刻到硅/二氧化硅/硅器件层中。光栅在1550纳米处显示出高达23%的效率，并且环形谐振...
晶圆键合单晶硅槽波导和环形谐振器
椭偏光谱(SE)、原子力显微镜(AFM)、X射线光电子能谱(XPS)、润湿性和光致发光(PL)测量研究了HF水 溶液中化学清洗的GaP(OOl)表面。SE数据清楚地表明，溶液在浸入样品后(W1分钟)会立即去除自然氧化 膜。然而，SE数据表明...
晶圆键合单晶硅槽波导和环形谐振器
我们通过键合薄的绝缘体上硅晶片来制造具有25纳米二氧化硅槽层的水平硅槽波导。在从键合结构的一侧去除硅衬底和掩埋氧化物之后，光栅耦合波导和环形谐振器被部分蚀刻到硅/二氧化硅/硅器件层中。光栅在1550纳米处显示出高达23%的效率，并且环形谐振...
次氯酸钠对单晶硅表面的纹理蚀刻
单晶硅的各向异性蚀刻是硅器件和微结构加工中经常使用的技术。已经制造的三角形和矩形凹槽、棱锥体、薄膜和微孔，它们在器件中有很大的应用。通过碱性蚀刻剂对硅(100)的单晶结构进行的表面纹理化被称为“随机金字塔”。晶体硅的表面纹理化通过使用不同的...
超薄单晶硅微结构
ABSTRACTThis paper discusses the fabrication of submicron p'microstructures for a number of MEMS applications using boro...
HF-HCl-H2O2混合物在单晶硅晶片上的结构分析
INTRODUCTIONWet-chemical treatments of silicon surfaces are frequently used for several different processing steps in p...
通过旋涂在单晶硅晶片上形成发射极层
1. IntroductionDuring last decades, the researcher mainly focused on cell efficiency improvement and watt peak cost red...
碳酸氢钠溶液氧化单晶硅太阳能电池的研究
1 INTRODUCTION The photovoltaic technology is well established as a reliable and economical one for small sources of e...
单晶硅碱性和铜碱酸溶液各向异性蚀刻特性的差异
Silicon (Si) surface texturing is an indispensable step for the fabrication of Si solar cells due to the high refection ...