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考虑光刻中厚掩模效应的边界层模型
The lack of transparent optical components at short wavelengths limits the available wavelengths in Deep Ultraviolet lit...
光掩模光刻设备国际招标公告(2)
招标项目名称:光掩模光刻设备项目实施地点:中国广东省招标产品列表(主要设备):光掩模光刻设备 1台招标文件领购开始时间:2023-10-14招标文件领购结束时间:2023-10-20投标截止时间（开标时间）:2023-11-06 10:00...
深紫外光刻机国际招标公告(1)
招标项目名称:深紫外光刻机招标产品列表(主要设备):深紫外光刻机 1招标文件领购开始时间:2023-10-20招标文件领购结束时间:2023-10-27开标时间:2023-11-21 14:00招标人:深圳国际量子研究院地址:深圳谢老师
石墨薄膜：下一代 EUV 光刻技术的物理屏蔽
The extreme ultraviolet (EUV) pellicle as a physical shield for the photomask is emerging and becoming essential for t...
光掩模光刻设备中标结果公告
项目名称：光掩模光刻设备项目编号：0705-234121603115/01招标产品列表(主要设备)：采购光掩模光刻设备招标机构：上海国际招标有限公司招标人：广州新锐光掩模科技有限公司开标时间：2023-11-06 10:00公示时间：202...
扇出晶圆级封装铜柱最高厚度光刻胶的研究
The mobile device's limited thermal budget hardly allows the use of a high-performance application (AP) atits full s...
东华大学光刻机采购项目中标结果公告
项目名称：东华大学光刻机采购项目项目编号：1825-2342023A2054招标范围：光刻机，1台。具体详见招标需求招标机构：上海财瑞建设管理有限公司招标人：东华大学开标时间：2023-11-24 10:00公示时间：2023-11-24 ...
微刻工艺中光刻胶膜均匀性的控制
摘要图1 实验装置的原理图通过A/D转换器观察和获取随电阻厚度和波长变化的反射信号。使用厚度估计算法，计算单元将其转换为厚度测量值。商用正面光刻胶，Shipley 3612，在4英寸晶圆上以2000转/分钟的速度进行旋转涂布。为了演示控制策...
光掩模光刻设备中标结果公告（光掩模光刻设备）
项目名称：光掩模光刻设备项目编号：0705-234121603115/03招标范围：采购光掩模光刻设备招标机构：上海国际招标有限公司招标人：广州新锐光掩模科技有限公司开标时间：2023-11-06 10:00公示时间：2023-11-06 ...
扇出晶圆级封装铜柱最高厚度光刻胶的研究
摘要该移动设备的热预算有限，几乎不允许高性能应用程序(AP)全速运行。然而，随着人工智能技术迅速应用于移动设备，对高速和大容量信号处理的需求不断增加。因此，控制AP芯片的产热量正成为关键因素，有必要开发一种基于重新分布层(RDL)的扇出封装...