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在选择性外延生长之前生产高质量硅表面的简单工艺
A simple and low-cost process was devised to elim-inate etch damage resulting from oxide etching on the seed-holesurface...
硅的氧化
二氧化硅有多种用途：1. 用作防止掺杂剂注入或扩散到硅中的掩模。2. 提供表面钝化。3. 将一个设备与另一个设备隔离（电介质隔离）。4. 作为 MOS 结构中的一个组件。5. 提供多层金属化系统的电气隔离硅的氧化发生在氧化硅界面，由四个步骤...
硅晶片的清洗程序
概况：硅片用溶剂清洗，然后是DI冲洗，然后是RCA清洗和DI冲洗，然后是HF浸渍和DI冲洗和吹干。所需时间：这个过程总共需要一个小时才能完成。所需材料：1、丙酮2、甲醇3、氢氧化铵4、过氧化氢5、稀释（2%）氢氟酸6、Pyrex浴容器7、热...
氮化硅湿法蚀刻工艺
氮化硅用作掩模以在半导体制造中产生微结构和连接。在大多数蚀刻应用中，可以通过改变温度或化学浓度来改变蚀刻速率，但最好将氮化硅蚀刻控制在其沸点和去离子水溶液中磷酸浓度为 85% 的条件下。 磷酸蚀刻液是一种粘稠的液体，加热至约160摄氏度沸腾...
二维层状材料中单光子发射体与氮化硅光子芯片的集成
Photonic integrated circuits (PICs) enable the miniaturizing of complex quantum optical circuits with large numbers of p...
催化剂浓度对硅金属辅助化学蚀刻的作用
A catalyst activates the etch solution in metal assisted chemical etching e.g. of crystalline silicon in aqueous etch so...
在碳化硅上生长的高光提取UVTFFC LED的制造技术
The light output of deep ultraviolet (UV-C) AlGaN light-emitting diodes (LEDs) is limited due to their poor light extra...
低温氮化硅炉国际中标结果公告
招标项目名称:低温氮化硅炉招标产品列表(主要设备):低温氮化硅炉 1项目编号：0705-234020603488招标范围：采购低温氮化硅炉招标机构：上海国际招标有限公司招标人：上海华力集成电路制造有限公司开标时间：2023-06-06 14...
12英寸硅基OLED项目国际招标公告
招标项目名称:12英寸硅基OLED项目招标产品列表(主要设备):干法刻蚀机腔室 1台招标文件领购开始时间:2023-06-08招标文件领购结束时间:2023-06-15开标时间:2023-06-29 10:00招标人:云南创视界光电科技有限...
西安奕斯伟硅产业基地二期项目中标结果公告
项目名称：西安奕斯伟硅产业基地二期项目项目编号：4197-2240XAESW002/21招标产品列表(主要设备):多线切割后清洗机 1台招标机构：中电商务（北京）有限公司招标人：西安欣芯材料科技有限公司开标时间：2023-06-08 10:...