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华林科纳湿电子化学品工作站为湿法制程研究保驾护航！
随着我国各行业对芯片需求的日益增长，这类型仪器购买量日益增加。然而市场上湿法制程相关设备基本以非标定制为主，设备体型大，交付时间长、造价高昂，往往忽略了实验室对场地、成本控制的要求。
化学品供应流量对湿式清洁槽中颗粒去除能力的影响
在总化学物质供给量不变的情况下，具有间歇化学物质供给和频繁流量变化的湿式清洁浴对于改善清洁性能是相当有效的。使用间歇化学品供应表明节省了化学品消耗，这是环境友好的，并且具有高通量过程。当晶片以宽间距和窄间距同时放置在相同的湿清洁浴中时，与具...
化学品供应量对湿式清洁槽中颗粒去除能力的影响
We found that a wet clean bath that has an interval chemical supply and a frequent fow change was quite eftective for im...
减少化学品使用的清洁优化
The cleaning chemistries which are typically employed throughout integrated circuitfabrication have been in use for many...
过氧化氢：可持续发展的关键化学品
Hydrogen peroxide (H2O2 ) is a clear, colorless liquid that is completely miscible with water produced on a massive scal...
半导体晶圆清洗站多化学品供应系统的讨论
Abstract: A multi-chemical supply system is developed and applied to a wet station, which uses the multi-chemical proces...
过程化学品和去离子水以及硅表面
The choice of an adequate analytical technique for contamination control anddefect reduction in the semiconductor manufa...