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宜兴中车时代半导体有限公司颗粒仪项目国际招标公告
招标项目名称:宜兴中车时代半导体有限公司颗粒仪项目招标产品列表(主要设备):颗粒仪 1台 招标文件领购开始时间:2023-07-04招标文件领购结束时间:2023-07-11开标时间:2023-08-02 09:30招标人:宜兴中车时代半导...
铝涂层晶圆喷射和超声波清洗过程中颗粒去除效率的评估
Among various wet cleaning methods, megasonic and jet spray gained their popularity in single wafer cleaning process for...
金属沉积过程中晶圆制造的颗粒减少
Metal Deposition or metallization process is one of the processes in fabricating a wafer. A wafer is a thin slice of se...
SPM 溶液对抛光 SiO2 薄膜和吸附二氧化铈纳米颗粒对单晶圆清洗的热影
Caria nanoparticles which have been used to remove SiO2 film rapidly and selectively form Ce-O-Sibonds with proposed che...
在颗粒去除非离子表面活性剂后- CMP清洗
The effect of a non-ionic surfactant on particles removal in post-CMP cleaning was investigated. Bychanging the concentr...
华虹宏力半导体制造有限公司8英寸集成电路制造项目国际招标公告（表面颗粒检测设备）
招标项目名称:华虹宏力半导体制造有限公司8英寸集成电路制造项目招标产品列表(主要设备):表面颗粒检测设备 1招标文件领购开始时间:2023-11-28招标文件领购结束时间:2023-12-05开标时间:2023-12-19 09:30招标人...
半导体资料丨颗粒、表面清洗工艺、熔融石英玻璃、硅腐蚀
半导体应用中颗粒形成、传输、沉积和过滤的基础研究 在半导体制造过程中，防止和控制颗粒污染是提高半导体产率的关键。为了控制和减少半导体制造过程中的纳米颗粒污染，应该同时研究颗粒的形成、输运、沉积和过滤。本文研究的目的是1)证明无颗粒环境中的颗...
评估微流体流动条件下的微分颗粒变形能力
ABSTRACT: Assessing the mechanical behavior of nano- and micron-scale particles with complex shapes is fundamental in dr...
纳米颗粒在半导体应用中的进展和意义——综述
ABSTRACT This review paper gives an overview of recent developments in nanoparticle research and semiconductor industry...
RCA Clean 变量对颗粒去除效率的影响
Abstract— Shrunken patterning for integrated device manufacturing requires surface cleanliness and surface smoothness i...