湿法解决方案 半导体资材 泛半导体湿法实验室 数据库
PL相关内容
当前位置： 网站首页 TAG: PL
HCL处理对多孔硅光电应用的影响
本文采用电化学阳极氧化法在p型取向硅片上形成多孔结构。电化学蚀刻的多孔硅(PS)样品在设定的时间间隔内暴露于HCl溶液，导致该材料的稳定和增强的发光。扫描电子显微照片显示了伴随PS表面的HCl处理的深刻变化。通过几何方法使用SEM图像确定P...
2.5 D Chiplet的整体和上下文设计流程-封装交互协同优化
Abstract—In recent days, 2.5D package designs have gained popularity with an increasing number of heterogeneous chiplets...
异构芯片间接口：实现更灵活的Chiplet互连系统
ABSTRACTThe chiplet architecture is one of the emerging methodologies andis believed to be scalable and economical. Howe...