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栅极氧化物形成前的清洗
半导体器件制造中涉及的一个步骤是在进一步的处理步骤，例如，在形成栅极氧化物之前。进行这种清洗是为了去除颗粒污染物、有机物和/或金属以及任何天然氧化物，这两者都会干扰后续处理。特别是清洁不充分是对栅极氧化物的性质有害，这反过来影响整个器件的性...
RCA清洁变量对颗粒去除效率的影响
AbstractShrunkenintegrateddevicepatterningformanufacturing requires surface cleanliness and surface smoothness inwet che...
一步清洁取代RCA两步清洁法用于Pre-Gate清洁
This work proposes an advanced wet chemical one-step cleaning process which omits the hydrochloric acid/hydrogen peroxid...
RCA-1清洁
RCA清洁剂用于去除硅晶片中的有机残留物。在这个过程中，它会氧化硅，并在晶圆片表面留下一层薄薄的氧化物。RCA-1清洁剂的一般配方为：5份水（水），1份27%氢氧化铵（NH4oH），1份30%过氧化氢（过氧化氢）。所需溶剂：325 ml D...
RCA Clean 变量对颗粒去除效率的影响
Abstract— Shrunken patterning for integrated device manufacturing requires surface cleanliness and surface smoothness i...