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硅片湿法清洗槽中兆声波下的水和气泡运动
The influences of a megasonic wave on water and bubblemotions in a wet cleaning bath used for 300 mm-diameter siliconwaf...
湿法清洗后氢封端表面的原子级分析
Atomically resolved scanning tunneling microscopy observations are performed on hydrogen-terminated Si(110) surfaces aft...
晶圆湿法清洗的速率检测器
In semiconductor substrate (wafer) cleaning, wet cleaning is essential. Wet cleaning may include both chemi cal and me...
华虹半导体（无锡）有限公司12英寸集成电路制造项目国际招标公告湿法清洗设备
招标项目名称:华虹半导体（无锡）有限公司12英寸集成电路制造项目招标产品列表(主要设备): 湿法清洗设备 1招标文件领购开始时间:2023-07-24招标文件领购结束时间:2023-07-31开标时间:2023-08-14 09:30...
华虹半导体（无锡）有限公司12英寸集成电路制造项目中标结果公告（湿法清洗设备）
项目名称：华虹半导体（无锡）有限公司12英寸集成电路制造项目项目编号：0613-234022123385招标范围：华虹半导体（无锡）有限公司12英寸集成电路制造项目招标机构：上海机电设备招标有限公司招标人：华虹半导体（无锡）有限公司开标时间...
湿法清洗过程中金属杂质在硅片和液体界面处偏析
ABSTRACT It is crucial to make Si wafer surfaces ultraclcan in order to realize low-temperature processing and high-sele...