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显影剂温度对光刻胶溶解影响的新模型
显影过程中显影剂溶液的温度会对抗蚀剂性能产生重大影响。速度随着温度以复杂的方式变化，通常导致“更快”的抗蚀剂工艺的反直觉结果。显影速率对剂量(或对敏化剂浓度)曲线的形状也将随温度发生显著变化，从而可能导致显著的性能差异。尽管在这一领域已经发...
减少光刻显影周期缺陷的冲洗方法
引言随着线宽尺寸的不断减小，防止更小的缺陷对于保持产量变得至关重要。在显影周期中产生并附着在BARC表面的缺陷，例如水点或光刻胶残留物，一直是人们关注的问题，通常以牺牲产量为代价来去除。有各种选择可以减少这些类型的缺陷，但每种都有缺点。一个...
上海积塔半导体有限公司特色工艺生产线建设项目国际招标公告
招标项目名称:上海积塔半导体有限公司特色工艺生产线建设项目招标产品列表(主要设备): ArF 浸没式匀胶显影机招标文件领购开始时间:2023-01-05招标文件领购结束时间:2023-01-12投标截止时间（开标时间）:2023-01-29...
光掩模显影设备采购国际招标公告
招标项目名称:光掩模显影设备采购招标产品列表(主要设备): 光掩模显影设备 1台招标文件领购开始时间:2023-01-28招标文件领购结束时间:2023-02-02投标截止时间（开标时间）:2023-02-20 09:30招标人:广州新锐光...
上海交通大学半自动涂胶显影一体机国际招标公告(2)
招标项目名称:上海交通大学半自动涂胶显影一体机招标产品列表(主要设备): 半自动涂胶显影一体机 1套招标文件领购开始时间:2023-02-02招标文件领购结束时间:2023-02-09投标截止时间（开标时间）:2023-02-23 09:3...
彩膜显影机国际招标公告
招标项目名称:彩膜显影机招标产品列表(主要设备): 彩膜显影机 9台招标文件领购开始时间:2023-02-07招标文件领购结束时间:2023-02-14投标截止时间（开标时间）:2023-02-28 09:30招标人:厦门天马光电子有限公司...
显影剂强度对模型 EUV光刻胶的图案化能力的影响
The demand for increased functionality and performance of electronic devices is called for by the 30 % shrink and doubl...
负性光刻胶显影液
负性光刻胶显影剂是用于显影曝光负性光刻胶的高纯度有机溶液。为各种负性光刻胶提供了范围广泛的溶剂显影剂专有混合物。它们的配制是为了补充所使用的抗蚀剂系统。开发人员是根据特定加工条件所需的活动水平来选择的。发展：在显影周期中，未曝光的光刻胶通过...
用于光刻处理的涂层和显影轨道
深紫外 (DUV) 步进系统0.25um 技术节点的生产级光刻曝光能够使用传统的照片工艺在 22mm x 22mm 的曝光区域上对 250nm 特征进行图案化。EX5 使用 KrF Cymer 5000 系列准分子激光源，强度输出增加到 3...
成都京东方光电科技有限公司第6代柔性AMOLED触控一体化显示器件项目中标结果公告涂胶显影机
项目名称：成都京东方光电科技有限公司第6代柔性AMOLED触控一体化显示器件项目项目编号：4197-214BOECDCK01/07招标产品列表(主要设备)：涂胶显影机 1台招标机构：中电商务（北京）有限公司招标人：成都京东方光电科技有限公...