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半导体单晶片旋转清洗器中涡流的周期性结构
近年来,随着集成电路的微细化,半导体制造的清洗方式从被称为“批量式”的25枚晶片一次清洗的方式逐渐改变为“单张式”的晶片一次清洗的方式。在半导体的制造中,各工序之间进行晶片的清洗,清洗工序次数多,其时间缩短、高精度化决定半导体的生产性和质量...
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