RCA清洁剂用于去除硅晶片中的有机残留物。在这个过程中，它会氧化硅，并在晶圆片表面留下一层薄薄的氧化物。RCA-1清洁剂的一般配方为：5份水（水），1份27%氢氧化铵（NH4oH），1份30%过氧化氢（过氧化氢）。
所需溶剂：
325 ml DI水
65 ml NH4OH (27%)
65ml H2O3 (30%)
将325 ml去离子水放入耐热玻璃烧杯中，加入65 ml氢氧化铵（27%），然后在热板上加热至70 + /- 5℃。从热板中取出，加入65 ml过氧化氢（30%）。溶液1-2分钟后剧烈起泡，说明可以使用。将硅片浸泡在溶液中15分钟。完成后，将晶圆转移到一个有去离子水的容器中，冲洗溶液。几次加水后，在流动的水下除去晶片。（静水表面可能含有有机残留物，在去除晶片时会重新沉积在水面。）处理RCA-1溶液，用冷水稀释，然后用大量冷水倒入排水管冲洗。旧的RCA-1清洗溶液不能使用，因为它在室温下24小时内失去其效力(在70度下30分钟）。
