二氧化硅玻璃陶瓷刻蚀化学及HF辅助刻蚀的机理观察

时间:2023-01-03 10:20:37 浏览量:0

关键词:玻璃陶瓷;氢氟酸;蚀刻条件;蚀刻速率;机制

 

引言

 

本文研究了氧化镁-氧化铝-二氧化硅玻璃陶瓷在氢氟酸中的腐蚀条件和机理。结果表明,在室温下,非晶相的腐蚀速率是纯堇青石晶体的218倍。此外,堇青石和非晶相在氟化氢溶液中的活化能分别为52.5和30.6千焦/摩尔。非晶相完全溶解所需的时间取决于氟化氢浓度。在蚀刻实验的基础上,建立并完善了一个新的模型来评估的演变。此外,通过HF蚀刻获得了具有高比表面和中孔结构的高结晶堇青石相。本文对蚀刻化学提出了新的见解,并为堇青石基催化陶瓷领域的进一步研究开辟了道路 

    

 实验

 材料和方法  

 

玻璃是由分析纯度的化学氧化物和碳酸盐在电炉的氧化铝坩埚中于1580℃熔化2 h制备的。将重新熔化的玻璃(10厘米× 10厘米× 1厘米)浇铸在金属块上,并置于退火炉中,该退火炉预热至650℃。然后,将炉子冷却至500℃(冷却速度1 K/min),关闭,冷却至室温。玻璃样品分别在798℃成核4小时,在945℃结晶4小时以获得质量。在这个过程中,成核首先沉淀下来,当成核稳定时,熔体中的原子迁移到界面,使晶体生长。将结晶样品研磨成粒度小于75 m的粉末,并储存在干燥箱中。为了便于比较非晶相和残余堇青石相之间的蚀刻速率,选择的样品分别是初始玻璃(通过熔化制成)和纯堇青石晶体(中国山东汉冶耐火材料公司)。

不同浓度的氟化氢溶液用纯度等级为氩的氟化氢(40%重量比)稀释。所有提及的浓度均以摩尔每升(摩尔/升)为单位。设计了几个CHF和时间的批量实验,以获得蚀刻速率和tad(如表1所示)。在该测量中,蚀刻时间间隔为5分钟。在每批中,将100毫克结晶粉末样品加入塑料管中的100毫升氟化氢溶液中,以确保氟化氢过量,从而使氟化氢溶液浓度的变化可以忽略不计。试管中的物质以每分钟3000转的转速离心5分钟。获得的粉末在80℃的烘箱中干燥。

结果

相和微观结构分析

作为成核剂添加到原料中。MgO-Al2O3-SiO2微晶玻璃中的尖晶石总是随主晶相一起析出。埃斯科瓦尔j。以及其他人。报道了二氧化钛的加入可以抑制尖晶石样物质的形成[17,18]。因此,通过XRD检测到少量尖晶石相。图2显示了具有不同蚀刻条件的MAS样品的SEM图像。在玻璃陶瓷中,堇青石晶体被无定形相包围。图2a显示了在5摩尔/升氟化氢溶液中蚀刻10秒后MAS的典型树枝状结构。图2b显示了在20摩尔/升氟化氢溶液中进行30分钟的样品过蚀刻。扫描电镜图像表明,应采用最佳蚀刻时间,以避免微结构退化

图2。在(a) 5摩尔/升氢氟酸10秒和(b) 20摩尔/升氢氟酸30分钟的蚀刻条件下,掩模的扫描电镜图像。



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蚀刻工艺分析

通过建立腐蚀时间与质量损失之间的关系,进一步研究了腐蚀机理;结果如图3所示。曲线斜率的变化表明蚀刻速率不是恒定的,并且随着时间而降低。此外,玻璃陶瓷在HF中的溶解可分为三个区域:(1)蚀刻速率在0至55分钟之间保持恒定,(2)由于结晶相在55至120分钟之间溶解,蚀刻速率降低,以及(3)由于无定形相的完全消耗,蚀刻速率在120分钟之后达到较低但恒定的值。应该注意的是,无定形相的逐渐溶解增强了堇青石结构的暴露,这导致第二和第三区域中的蚀刻速率较低。


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结论

在此,我们研究了堇青石玻璃陶瓷在氢氟酸溶液中的溶解,获得了高比表面积和介孔结构的高结晶堇青石相。我们观察到堇青石和非晶相的蚀刻速率存在显著差异。在1 mol/L HF溶液中,ra比rc高约218倍,这可以用堇青石(52.5 kJ/mol)和非晶相(30.6 kJ/mol)的活化能来解释。在非晶相,Mg2+离子破坏了二氧化硅网络,导致结构松散。




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