臭氧-去离子水 (O3 -DI) 工艺可以集成到臭氧 (O3) 具有工艺优势的各种水性应用中。
溶解在水中的臭氧也可用作 HCl 过氧化物混合物中过氧化氢的替代品，从而降低所用化学品的成本，同时将氧化电位转移到更高的氧化值。CFM 的 O3 -DI 的其他应用包括 HF 后处理，其中 O3 -DI 在氧化硅再生长中充当氧化剂。由于其高氧化电位，接触臭氧可能对工厂人员和设备造成危害。因此，在完全包含化学物质并消除接触的系统中使用 O3 -DI 非常重要。
臭氧的高氧化还原电势导致快速转化回氧气，使其成为其他化学过程的环保替代品。DI-O3 系统具有用户可控和可配置的溶解臭氧浓度和流速，可满足广泛应用的特定要求。
应用;
臭氧化模块是一种经济高效的解决方案，适用于领先的工艺臭氧水应用和微电子行业的臭氧清洁工艺，例如：
1、硅片清洗生产
2、逻辑和存储器制造
3、LED/OLED/QOLED (LTPS) 平板显示器清洗及生产
4、光罩
